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반도체 세정 장비 기술을 중국에 유출한 혐의로 지난 2월 징역형을 선고받은 삼성전자 자회사 전 직원이 또 다른 기술 유출 혐의로 1심에서 징역형을 선고받았습니다. 수원지방법원은 어제(11일) 국가핵심기술인 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 세메스 전 직원 남 모 씨에게 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했습니다. 또 남 씨가 세메스에서 퇴직한 뒤 지난 2019년 설립한 반도체 장비제조업체 법인에도 벌금 10억 원을 내라고 주문했습니다. 재판부는 "기술 유출 범죄를 가볍게 처벌하면, 해외 경쟁업체가 우리나라 기술을 손쉽게 탈취하는 결과를 낳을 것이라면서, 피해 회사가 엄벌을 바라고 있다며 양형 이유를 설명했습니다. 재판부는 범행에 가담한 기술 유출 브로커와 세메스 협력사 대표 등 4명에게도 징역 2년에서 4년을 선고하고, 각각 벌금 3백만 원에서 3억 원을 내라고 판결했습니다. 다만 이들 가운데 협력사 직원은 수사 협조하고, 범행을 자백한 점 등이 참작돼 징역형에 집행유예 3년이 내려졌습니다. A 씨는 재작년 6월 세메스가 세계 최초로 개발한 '초임계 반도체 세정 장비' 핵심 도면을 빼돌려 중국에 유출한 혐의로 구속 상태로 재판에 넘겨졌습니다. 초임계 세정 장비는 액체도 기체도 아닌 '초임계' 상태의 이산화탄소로 반도체 기판을 세정하는 설비로, 기판의 손상을 최소화해 수율을 높이는 장비입니다. 앞서 지난 2월 남 씨는 세메스가 개발한 '습식 반도체 세정 장비 기술'을 유출한 사건과 관련해 1심에서 징역 4년을 선고받았습니다.

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